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晶體(tǐ)尺寸:8毫米 電(diàn)學性能:半導體(tǐ) 晶體(tǐ)結構:單斜磷 晶胞參數:a = 0.541nm,B = 0.375nm,C = 0.944nm,α=γ= 90°,γ= 97.50 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:>99.995% 表征方法:XRD、拉曼、EDX
三硒化锆晶體(tǐ)(99.995%) ZrSe3 (Zirconium Triselenide) 晶體(tǐ)尺寸:~8毫米 電(diàn)學性能:半導體(tǐ) 晶體(tǐ)結構:單斜晶系 晶胞參數:a = 0.541 nm, b = 0.375 nm, c = 0.944 nm, α = γ = 90°, γ = 97.50° 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:>99.995%
二硒化钼晶體(tǐ) 2H-MoSe2(Molybdenum Diselenide)-N型 晶體(tǐ)尺寸:~10毫米 電(diàn)學特性:N型半導體(tǐ) 晶體(tǐ)結構:六邊形 晶胞參數:a = b = 0.329 nm, c = 1.289 nm, α = β = 90°, γ = 120° 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:99.995%
二硒化鎢晶體(tǐ) WSe2(Tungsten Diselenide)-P型 晶體(tǐ)尺寸:~10毫米 電(diàn)學性能:半導體(tǐ),P型 晶體(tǐ)結構:六邊形 晶胞參數:a = b = 0.328 nm, c = 1.298 nm, α = β = 90°, γ = 120° 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:>99.995%
硒化铟晶體(tǐ)(99.995%) InSe 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:>99.995% 低維材料層狀過渡金屬化合物(wù)材料,新增材料:FeCl2,NbS3,GaTeI,InSe,CuInP2S6,WSSe,Fe3GeTe2,NiI2,FePS3,MnPSe3,MnPS3,NiPS3,PdSe2
二硒化鎢钯晶體(tǐ)(99.995%) PdSe2 晶體(tǐ)類型:合成 晶體(tǐ)純度:>99.995% 低維材料層狀過渡金屬化合物(wù)材料,新增材料:FeCl2,NbS3,GaTeI,InSe,CuInP2S6,WSSe,Fe3GeTe2,NiI2,FePS3,MnPSe3,MnPS3,NiPS3,PdSe2
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