激光共聚焦掃描顯微鏡

簡要描述：激光共聚焦掃描顯微鏡通過快速光學掃描模塊和信号處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體(tǐ)晶片，FPD産品，MEMS設備，玻璃基闆，材料表面等方面擁有解決方案。

産品分(fēn)類

詳細介紹

激光共聚焦掃描顯微鏡是一(yī)種準确、可靠的三維(3D)掃描系統，通過快速光學掃描模塊和信号處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構，如半導體(tǐ)晶片，FPD産品，MEMS設備，玻璃基闆，材料表面等方面擁有*的解決方案。

Features & Benefits（性能及優勢）：

高分(fēn)辨無損傷光學3D測量自動傾斜補償

實時共焦成像簡單的數據分(fēn)析模式

多種光學變焦雙Z掃描

大(dà)範圍拼接半透明基材的特征檢測

實時CCD明場和共聚焦成像無樣品準備

自動聚焦

Application field（應用領域）：

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度，寬度，角度，面積和體(tǐ)積，例如

-半導體(tǐ):IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工(gōng)藝

- FPD産品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電(diàn)池，太陽能電(diàn)池紋理，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分(fēn)析

Specification(激光共聚焦掃描顯微鏡規格）：

Model	Microscope NS-3500						備注
	Controller NS-3500E
物(wù)鏡倍率		10x	20x	50x	100x	150x
觀察/ 測量範圍	水平 (H): μm	1400	700	280	140	93
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105	70
工(gōng)作範圍: mm		16.5	3.1	0.54	0.3	0.2
數值孔徑(N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95	0.95
光學變焦		x1 to x6
總放(fàng)大(dà)倍率		178x to 26700x
觀察/測量光學系統		針孔共聚焦光學系統
高度測量	測量掃描	長掃描 : 10 mm
	顯示分(fēn)辨率	0.001 μm
	重複率 σ	0.010 μm					注 1以100×/ 0.95物(wù)鏡對标準樣品（步長1μm）進行100次測量。
寬度測量	顯示分(fēn)辨率	0.001 μm
	重複率 3σ	0.02 μm					注 2 :以100×/ 0.95物(wù)鏡對标準樣品（5μm間距）進行100次測量
幀記憶	像素	1024x1024, 1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96
	單色圖像	12 bit
	彩色圖像	8-bit for RGB each
	高度測量	16 bit
幀速率	表面掃描	20 Hz to 160 Hz
	線掃描	~8 kHz
自動功能		自動增益
激光共焦測量光源	波長	405nm
	輸出	~2mW
	激光等級	Class 3b
激光接收元件		PMT (光電(diàn)倍增管)
光學觀察光源	燈	10W LED
光學觀察照相機	成像元件	1/2” 彩色圖像 CCD 傳感器
	記錄分(fēn)辨率	640x480
	自動調整	增益, 快門速度, White balance
數據處理單元		PC
電(diàn)源	電(diàn)源電(diàn)壓	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	電(diàn)流消耗	500 VA max.
重量	顯微鏡	Approx. ~200 kg (Measuring head unit : ~12 kg)
	控制器	~8 kg

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