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NS3500 Solar 半導體(tǐ)晶圓質量檢測系統

簡要描述:NS-3500 Solar 是一(yī)種可靠的半導體(tǐ)晶圓檢測系統。通過快速光學掃描模塊和信号處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構,如半導體(tǐ)晶片,FPD産品,MEMS設備,玻璃基闆,材料表面等方面擁有各種解決方案。

  • 産品型号:
  • 廠商(shāng)性質:生(shēng)産廠家
  • 更新時間:2021-08-19
  • 訪  問  量:1634

詳細介紹

NS3500 Solar 半導體(tǐ)晶圓質量檢測系統

NS-3500 Solar 是一(yī)種可靠的半導體(tǐ)晶圓檢測系統。通過快速光學掃描模塊和信号處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構,可以爲半導體(tǐ)晶片,FPD産品,MEMS設備,玻璃基闆,材料表面等提供各種解決方案。

Features & Benefits(性能及優勢):

  • 高分(fēn)辨無損傷光學3D測量                               自動傾斜補償

  • 實時共焦成像                                                 簡單的數據分(fēn)析模式

  • 多種光學變焦                                                 雙Z掃描

    大(dà)範圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

  • 實時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準備

  • 自動聚焦

Application field(應用領域):

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度,寬度,角度,面積和體(tǐ)積,例如

-半導體(tǐ):IC圖形,凹凸高度,線圈高度,缺陷檢測,CMP工(gōng)藝

- FPD産品:觸摸屏屏幕檢測,ITO圖案,LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電(diàn)池,太陽能電(diàn)池紋理,激光圖案

-材料研究:模具表面檢測,粗糙度,裂紋分(fēn)析




Specifications(規格):

Model

Microscope  NS-3500 Solar

備注

物(wù)鏡倍率

10x

20x

50x

100x


觀察/  測量範圍  

水平 (H): μm

1400

700

280

140


垂直 (V): μm

1050

525

210

105


工(gōng)作範圍: mm

16.5

3.1

0.54

0.3


數值孔徑(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95


光學變焦

x1 to x6


總放(fàng)大(dà)倍率

178x to 26700x


觀察/測量光學系統  

Pinhole共聚焦光學系統


高度測量

測量掃描範圍

400 um

注 1

顯示分(fēn)辨率

0.001 μm


重複率 σ

0.010 μm

注 2

幀記憶

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


單色圖像

12 bit


彩色圖像

8-bit for RGB each


高度測量

16 bit


幀速率

表面掃描

20 Hz to 160 Hz


線掃描

~8 kHz


激光共焦測量光源

波長

405nm


輸出

~2mW


激光等級

Class 3b


激光接收元件

PMT (光電(diàn)倍增管)


光學觀察光源

10W LED


光學觀察照相機

成像元件

1/2" 彩色圖像 CCD 傳感器


記錄分(fēn)辨率

640x480


自動調整

增益, 快門速度, White balance


數據處理單元

PC


電(diàn)源

電(diàn)源電(diàn)壓

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


電(diàn)流消耗

500 VA max.


重量

顯微鏡

Approx. ~50 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg


隔振系統

氣浮光學平台隔振系統

Option

           

注1:精細掃描由壓電(diàn)執行器(PZT)執行。

注2 :以100×/ 0.95物(wù)鏡對标準樣品(步長1μm)進行100次測量。        



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