當前位置:首頁 > 産品中(zhōng)心 > 光譜分(fēn)析儀 > 射頻(pín)輝光放(fàng)電(diàn)光譜儀 > HORIBA GD Profil射頻(pín)輝光放(fàng)電(diàn)光譜儀(GD)
簡要描述:輝光放(fàng)電(diàn)光譜儀是解密鍍層工(gōng)藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一(yī)性等信息,從而改善工(gōng)藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體(tǐ)器件、LED芯片、薄膜太陽能電(diàn)池、锂電(diàn)池陰陽極、光學玻璃、核材料等。
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輝光放(fàng)電(diàn)光譜儀是解密鍍層工(gōng)藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一(yī)性等信息,從而改善工(gōng)藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體(tǐ)器件、LED芯片、薄膜太陽能電(diàn)池、锂電(diàn)池陰陽極、光學玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作爲超快鍍層分(fēn)析的理想工(gōng)具,非常适合于導體(tǐ)和非導體(tǐ)複合鍍層的分(fēn)析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發、質控的理想工(gōng)具。
· 使用脈沖式射頻(pín)輝光源,可有效分(fēn)析熱導性能差以及熱敏感的樣品。
· 采用多項技術,如高動态檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度範圍,Polyscan多道掃描的光譜分(fēn)辨率爲18pm~25pm等。
· 分(fēn)析速度快(2-10nm/s)
技術參數:
1、射頻(pín)發生(shēng)器-标準配置、複合D級标準、穩定性高、濺射束斑極爲平坦、等離(lí)子體(tǐ)穩定時間極短,表面信息無任何失真。
2、脈沖工(gōng)作模式既可以分(fēn)析常規的塗/鍍層和薄膜,也可以很好地分(fēn)析熱導性能差和熱易碎的塗/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜範圍從110nm-800nm,可測試遠紫外(wài)元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版離(lí)子刻蝕全息光栅保證了儀器擁有最大(dà)的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。
5、高動态檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動态範圍爲5×1010。
6、寬大(dà)的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強大(dà)的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、HORIBA*的單色儀(選配)可極大(dà)地提高儀器靈活性,可實現固定通道外(wài)任意一(yī)個元素的同步測試,稱爲n+1。
9、适用于ISO14707和16962标準。
儀器原理:
輝光放(fàng)電(diàn)腔室内充滿低壓氩氣,當施加在放(fàng)電(diàn)兩極的電(diàn)壓達到一(yī)定值,超過激發氩氣所需的能量即可形成輝光放(fàng)電(diàn),放(fàng)電(diàn)氣體(tǐ)離(lí)解爲正電(diàn)荷離(lí)子和自由電(diàn)子。在電(diàn)場的作用下(xià),正電(diàn)荷離(lí)子加速轟擊到(陰極)樣品表面,産生(shēng)陰極濺射。在放(fàng)電(diàn)區域内,濺射的元素原子與電(diàn)子相互碰撞被激化而發光。
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