六方氮化硼-上海磊矶科技有限公司

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二維材料

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CVD銅基多層氮化硼薄膜（2*2）

Multilayer h-BN （Boron Nitride） film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct band gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms.

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廠商(shāng)性質：生(shēng)産廠家
更新日期：2018-07-02

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CVD銅基單層氮化硼薄膜

Single layer h-BN （Boron Nitride） monolayer thick film is grown onto 50 um thick copper foils. h-BN is an insulator with a direct band gap of 6 eV with strong ionic bonding between B-N atoms.

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更新日期：2018-07-02

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h-BN Flakes Powder 氮化硼薄片粉末

This product contains small crystallites of h-BN layered flakes that can be used for conventional exfoliation process as well as liquid phase h-BN solution manufacturing.

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更新日期：2018-07-03

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h-BN 氮化硼晶體(tǐ)

Our h-BN crystals reach at most to 2mm in size and are considered as gold standard in 2D materials field.

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更新日期：2018-07-03

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基于285nm二氧化矽基底的單層氮化硼薄膜

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates （p-doped）, 1cmx1cm: 4 pack Properties of BN film 97% coverage with minor holes and organic residues High Crystalline Quality

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更新日期：2018-07-02

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基于銅基的單層氮化硼薄膜（5*2.5cm）

Single layer h-BN （Boron Nitride） film grown in copper foil. h-BN is an insulator with a direct band gap of 5.97 eV. Due to its strong covalent sp2 bonds in the plane, the in-plane mechanical strength

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更新日期：2018-07-02

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