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羟基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs

簡要描述：羟基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分(fēn)：羟基化石墨烯量子點
外(wài)觀：無色溶液
發光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物(wù)
規格：100ml

  • 産品型号：HG
  • 廠商(shāng)性質：生(shēng)産廠家
  • 更新時間：2018-07-03
  • 訪  問  量：1212

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詳細介紹

羟基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分(fēn)：羟基化石墨烯量子點
外(wài)觀：無色溶液
發光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物(wù)
規格：100ml

羟基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
制備方法：水熱法
成分(fēn)：羟基化石墨烯量子點
外(wài)觀：無色溶液
發光峰：375納米
粒度：6納米
濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
溶液：水和乙二醇的混合物(wù)
規格：100ml

Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)

TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots 

Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots

 

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