SUNANO将出席2016石墨烯高峰論壇

    爲推進中(zhōng)國石墨烯等碳納米材料的研究和産業發展，2016石墨烯高峰論壇将于4月14日在清華大(dà)學深圳研究生(shēng)院舉行。

    本次論壇将繼續以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工(gōng)業化應用開(kāi)發等爲主題，多個國家和地區的學者和産業界人士，從學術和産業化視角探讨石墨烯及其他二維材料的研究進展和産業發展現狀，爲國内外(wài)傑出科學家與企業家搭建一(yī)個交流與合作的平台。

巨納集團SUNANO GROUP也将出席本次論壇，巨納作爲我(wǒ)(wǒ)國*石墨烯國家标準的*起草單位和組長單位，除了與國内外(wài)專家學者交流之外(wài)，還會爲大(dà)家介紹zui的多密度等離(lí)子體(tǐ)CVD系統-NEXTCVD。如果您正從事相關的工(gōng)作，歡迎到現場與我(wǒ)(wǒ)們交流。

多密度等離(lí)子體(tǐ)CVD系統-NEXTCVD

SUNANO多功能寬密度等離(lí)子體(tǐ)CVD結合了電(diàn)感耦合和電(diàn)容耦合輝光放(fàng)電(diàn)的優點，可在寬密度工(gōng)藝範圍（109-1013 cm-3)實現穩定的等離(lí)子體(tǐ)輔助CVD，具有優良的材料處理性能和廣泛的應用範圍，是目前功能zui強大(dà)的等離(lí)子體(tǐ)CVD系統。

       主要特點 

• 主要用于石墨烯表面層數減薄、刻蝕、修飾、改性
• 多種工(gōng)作氣體(tǐ)下(xià)産生(shēng)穩定的等離(lí)子體(tǐ)輝光放(fàng)電(diàn)： 
• 氩氣、氫氣、氮氣、氧氣、矽烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化   硫、四氟化碳、二氧化碳等等。
• 等離(lí)子體(tǐ)密度可調，變化範圍大(dà)（109-1013 cm-3）
• 可與磁控濺射同時工(gōng)作形成共沉積（zui多可與四個磁控濺射靶材形成等離(lí)子 體(tǐ)輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物(wù)薄膜 

廣泛的應用範圍 

• 光伏行業（氮化矽/非晶矽/微晶矽/等離(lí)子體(tǐ)織構與刻蝕）
• 新型二維材料（石墨烯/二硫化钼等的表面改性及制備）
• 半導體(tǐ)工(gōng)藝（刻蝕工(gōng)藝/氮化矽與二氧化矽工(gōng)藝等）
• 納米材料的生(shēng)長與納米形貌的刻蝕構造 

熱烈歡迎世界各界人士莅臨巨納集團展台，溝通交流，共商(shāng)合作大(dà)業！